磁控溅射沉积钒薄膜与显微结构表征任务书

 2021-08-22 23:34:57

1. 毕业设计(论文)主要内容:

采用磁控溅射技术在单晶氧化镁、氧化铝基板上沉积金属钒薄膜。考察溅射功率、沉积气压、基板温度对钒薄膜的显微结构的影响。

1.钒薄膜的制备技术

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2. 毕业设计(论文)主要任务及要求

要求:

学生需要熟练操作磁控溅射系统,并能够系统的完成几组样品的制备。薄膜材料的各类测试方法:X-射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜等。熟练查阅英文科技文献。

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3. 毕业设计(论文)完成任务的计划与安排

1-3周:查阅相关文献资料,完成英文翻译。明确研究内容,了解研究所需靶材、仪器和设备。确定技术方案,并完成开题报告。

4-6周:按照设计方案,磁控溅射沉积制备钒薄膜。

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4. 主要参考文献

1 P. Pedrosa, N. Martin, R. Salut, M. Arab, P.Yazdi, and A. Billard, “Controlled thermal oxidation of nanostructured vanadiumthin films,” Materials Letters, 174 162–166 (2016).

2 C. Li, X. Tian, and T. Liu, “Microstructureand corrosion resistance of vanadium films deposited at differenttarget-substrate distance by HPPMS,” Rare Meteals, 33 587–593(2014).

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