化学气相沉积法制备外延薄膜及其用于石墨烯生长的研究任务书

 2021-08-20 10:08

1. 毕业设计(论文)主要内容:

研究不同温度和压强对蓝宝石单晶上外延铜薄膜的生长的影响。探究层状外延铜薄膜的生长过程和生长模式,并结合相关理论对MOCVD生长层状金属薄膜的机理进行阐述。最终探索适合石墨烯外延生长的外延铜薄膜的条件。尝试在自行制备的外延铜薄膜上进行石墨烯的原位生长,并表征其层数,缺陷及相关结构和性能。整个过程采用XRD, FESEM, AFM, EDS, Raman, TEM等手段进行材料表征。

2. 毕业设计(论文)主要任务及要求

1.查阅不少于15篇的相关资料,其中英文文献不少于5篇,完成开题报告,并完成不少于5000字的英文文献翻译;

2.不同温度和压强对外延铜薄膜的生长的影响,结合有机物前躯体乙酰丙酮铜分解模式,阐述MOCVD层状金属薄膜的生长机理;

3.探究外延铜薄膜上合适石墨烯的生长的条件;

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3. 毕业设计(论文)完成任务的计划与安排

1.第1-2周:查阅相关文献资料,明确研究内容,确定方案,完成开题报告;

2.第3-9周:在蓝宝石基板上制备外延铜薄膜,并及时对其结构进行表征,研究不同温度和压强对外延铜薄膜的生长的影响,需要对铜薄膜性能进行改进的地方及时改进。完成该部分后,结合相关理论对生长机理进行阐述;

3.第10-13周:研究外延铜薄膜上石墨烯的生长,并结合测试手段进行表征和分析;

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4. 主要参考文献

ADDIN MendeleyBibliography CSL_BIBLIOGRAPHY [1] R. Muoz and C. Gómez-Aleixandre, Reviewof CVD Synthesis of Graphene, Chem.Vap. Depos. 19 (2013) 297–322.

ADDIN MendeleyBibliography CSL_BIBLIOGRAPHY [2] J. B. Park, J. Graciani, J. Evans, D.Stacchiola, S. D. Senanayake, L. Barrio, P. Liu, J. F. Sanz, J. Hrbek, J. A.Rodriguez, J. Am. Chem. Soc. 132 (2010) 356–363.

[3]Gang Hee Han, Fethullah Gunes, Jung Jun Bae, Eun Sung Kim, Seung JinChae, Hyeon-Jin Shin, Jae-Young Choi, Didier Pribat and Young Hee Lee, Influenceof Copper Morphology in Forming Nucleation Seeds for Graphene Growth, Nano Lett. 11 (2011) 4144–4148.

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