ArF光源激光器腔体的温度控算研究任务书

 2021-09-01 09:09

1. 毕业设计(论文)主要内容:

ArF光源激光器的腔体在正常工作情况下,要求其温度波动指标为目标温度±0.2℃@5min。其温度控制方方案采用控制进入腔体内部PCW(工艺冷却水)的流量,进而调节控制腔体的温度。本任务书拟完成后续工作如下:

1、分析ArF光源净化与温控系统的需求和功能的需求与功能;

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2. 毕业设计(论文)主要任务及要求

1、查阅中外文资料,外文参考资料阅读量不少于10万印刷字符。

2、外文翻译,不少于5千汉字;

3、撰写开题报告;

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3. 毕业设计(论文)完成任务的计划与安排

第1-3周完成开题报告和英文翻译

第4-7周完成控制模型设计和算法设计

第8-11周编写相应代码及调试

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4. 主要参考文献

[1] 聂宏飞,扫描投影光刻机的温度控制技术研究[D],华中科技大学,2009

[2] 王伟,张晶涛,柴天佑.PID参数先进整定方法综述[J].自动化学报,2000,26(3): 347-355.

[3] 舒海.模糊PID控制算法设计及其在电子烧结炉温度控制中的应用[D].中南大学, 2012.

[4] 胡明庆.准分子激光器高精度温度控制系统.合肥工业大学.2015

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