1. 毕业设计（论文）的内容和要求
DBD工作气体一般为He、Ar、N2等易均匀放电气体。
但随着研究的深入，人们发现纯He、Ar或N2等气体DBD中活性粒子种类单一，化学活性有限，无法满足DBD众多实际应用领域对高活性等离子体源的需要。
而在等离子体中添加H2O、O2、NH3等成分可以增强其氧化性，可在聚合物材料改性，细菌灭活医疗消毒，脱除氮氧化物、二氧化硫和VOC等物理化学过程中具有极其重要的作用。
2. 参考文献
根据毕业要求指点10.3，毕设期间要进行研究现状调查与总结，要求在开题报告及毕业设计（论文）中涉及的中文文献不少于20篇，其中近5年不少于8篇，英文文献不少于5篇。
以下是与本课题相关的部分文献列表：[1] 梁曦东, 陈昌渔, 周远翔. 高电压工程[M]. 北京: 清华大学出版社, 2003.[2] 徐学基, 诸定昌. 气体放电物理[M]. 上海: 复旦大学出版社, 1996.[3] 邱毓昌, 张文元, 施围. 高电压工程[M]. 西安: 西安交通大学出版, 1995.[4] 王新新,李成榕.大气压氮气介质阻挡均匀放电[J].高电压技术, 2011, 37(06): 1405 -1415.[5] 王新新.介质阻挡放电及其应用[J].高电压技术,2009,34(01):1-11.[6] Kogelschatz U. Dielectric-barrier Discharge: Their History, Discharge Physics, and Industrial Application[J]. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 2003, 23(1): 1-46[7] 彭许文. 常压氮气均匀介质阻挡放电的电学特性和发射光谱研究[D].大连理工大学,2008.[8] 潘杰.大气压Ar、N2和Ar/O2气体脉冲介质阻挡放电等离子体机理及特性的数值研究[D].山东大学,2016.[9] 廖作敏. 大气压均匀介质阻挡放电研究[D].北京理工大学,2010.[10] 王坤. 大气压下的介质阻挡放电对聚乙烯表面改性[D].大连理工大学, 2006.[11] 李娟娟. 氮气中脉冲大气压介质阻挡放电的研究[D].大连理工大学,2012.[12] 杨富翔. 介质阻挡放电均匀性及模式转变研究[D].大连理工大学,2016.[13] 张帅. 纳秒脉冲空气均匀介质阻挡放电发射光谱诊断[D]. 大连理工大学, 2016.[14] Kwon O J, Myung S W, Lee C S, et al. Comparison of the surface characteristics of polypropylene films treated by Ar and mixed gas (Ar/O2) atmospheric pressure plasma[J]. J Colloid Interface Sci, 2006, 295(2):409-416.[15] Deynse A V, Geyter N D, Leys C, et al. Influence of Water Vapor Addition on the Surface Modification of Polyethylene in an Argon Dielectric Barrier Discharge[J]. Plasma Processes and Polymers, 2014, 11(2):117-125.[16] 胡建杭, 方志, 章程, 赵龙章.介质阻挡放电处理增强聚合物薄膜表面亲水性[J].高电压技术,2008(05):883-887.[17] 方志, 章程, 胡建杭, 赵龙章. 空气中介质阻挡放电对聚丙烯进行表面改性的研究[J]. 真空科学与技术学报, 2008(05):404 - 409.[18] 方志, 杨浩, 解向前. 均匀介质阻挡放电处理提高聚合物薄膜表面亲水性的研究[J].真空科学与技术学报, 2010, 30(02):160 - 166.[19] Shkurenkov I A ,Mankelevich Y A ,Rakhimova T V . Two-dimensional simulation of an atmospheric-pressure RF DBD in a H2:O2 mixture: discharge structures and plasma chemistry[J]. Plasma Sources Science Technology, 2013, 22(1):181-188.[20] Xiao H P , Du X , Bai P S . Research on the Effect of Adding O2 to DBD Method for Removing NO[C]// Advances in Computer Science, Intelligent System Environment. DBLP, 2011.[21] 罗毅, 方志, 邱毓昌. 介质阻挡放电影响因素分析[J]. 高压电器, 2004, 40(2): 81-83.[22] 杨保姣. 介质阻挡放电等离子体中氧原子密度的发射光谱测量[D]. 大连理工大学, 2011.[23] 方志, 王辉, 邱毓昌等. 介质阻挡放电等效电容变化规律的研究[J]. 绝缘材料, 2005, 38 (2): 37-40.[24] 罗海云, 冉俊霞, 王新新. 大气压不同惰性气体介质阻挡放电特性的比较[J]. 高电压技术, 2012, 38(5):1070-1077.[25] Kong M G, Kroesen G, Morfill G, et al. Plasma medicine: an introductory review[J]. New Journal of Physics, 2009, 11(11):115012.[26] 章程, 方志, 胡建杭等. 不同条件下介质阻挡放电的仿真与实验研究[J]. 中国电机工程学报, 2008, 28(34): 33-39.
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